• 覃思科技_Safematic

    覃思科技_Safematic

    瑞士Safematic鍍膜儀_電鏡制樣
    Tousimis CPDs

    Tousimis CPDs

    Tousimis CPDs
    加拿大Dragonfly

    加拿大Dragonfly

    加拿大Dragonfly
    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    南京覃思科技有限公司

    當前位置 :
    首頁
    /
    產品中心
    全部分類
    Chronos系列基于Timepix3的超快探測系統

    Chronos系列基于Timepix3的超快探測系統

    荷蘭ASI新近推出的Chronos系列基于事件和數據驅動的混合像素高速探測器相機,采用Timepix3芯片技術,具備卓越的性能,包括1.56納秒的時間分辨率,相當于幀基相機的600MHz。該系列相機具有極高的無噪音數據采集速度,每秒可捕獲高達300億次轟擊,可實現原子晶格的特定狀態大場讀出、量子相關性、光子糾纏、大分子成像分析和閃爍體等研究用途。
    瑞士Safematic CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀

    瑞士Safematic CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀

    CCU-010 LV_SP-010磁控離子濺射鍍膜儀,是電子顯微鏡中精細顆粒貴金屬鍍膜的理想工具。觸摸屏操控,配方可編程,保證結果可重復;具有斷電時系統自動排氣功能,防止系統被機械泵油污染。標配膜厚監測裝置;主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間;在對樣品進行鍍膜之前或鍍膜之后,可選對樣品進行等離子刻蝕處理,以增加薄膜的附著力或對膜層表面進行改性。
    瑞士Safematic CCU-010 LV_CT-010熱蒸發鍍碳儀

    瑞士Safematic CCU-010 LV_CT-010熱蒸發鍍碳儀

    CCU-010 LV_CT-010精細真空鍍膜系統專為SEM和EDX的常規高質量鍍碳而設計。緊湊的插入式碳蒸發模塊為鍍碳樹立了新標桿。將該頭插入CCU-010 LV鍍膜主體后,即可立即使用,適合SEM/EDS等需要高質量碳膜應用的場合。
    瑞士Safematic CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀

    瑞士Safematic CCU-010 LV離子濺射和鍍碳一體化鍍膜儀

    CCU-010 LV普通真空鍍膜系統專為SEM和EDX的常規高質量濺射鍍膜和鍍碳而設計。它是一款結構緊湊、全自動型的離子濺射和/或蒸發鍍碳設備,使用非常簡便。采用獨特的插入式設計,通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后,可選進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專有的自動碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜,無需用戶干預。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間。
    瑞士Safematic CCU-010 HV_SP-010高真空離子濺射鍍膜儀

    瑞士Safematic CCU-010 HV_SP-010高真空離子濺射鍍膜儀

    CCU-010 HV系列高真空鍍膜系統專為滿足電鏡樣品制備領域及材料科學薄膜應用的最高要求而設計。CCU-010 HV 高真空濺射儀采用優質組件和智能設計,可在超高分辨率應用中提供出色的結果。 標配抽真空系統完全無油,含高性能渦輪泵和前級隔膜泵,均位于內部。標配FTM膜厚監測裝置。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間。
    瑞士Safematic CCU-010 HV_CT-010高真空熱蒸發鍍碳儀

    瑞士Safematic CCU-010 HV_CT-010高真空熱蒸發鍍碳儀

    CCU-010 HV_CT-010為一款結構緊湊、全自動型的熱蒸發鍍碳設備,使用非常簡便。采用獨特的插入式設計,變換鍍膜頭非常簡單。在鍍膜之前和/或之后,可以進行等離子處理(可選項)。模塊化設計可輕松避免交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專有的自動卷送碳源設計–多達數十次碳鍍膜,無需用戶干預。
    瑞士Safematic CCU-010 HV高真空離子濺射/鍍碳一體化鍍膜儀

    瑞士Safematic CCU-010 HV高真空離子濺射/鍍碳一體化鍍膜儀

    CCU-010 HV為一款結構緊湊、全自動型的高真空離子濺射和蒸發鍍碳一體化鍍膜儀,使用非常簡便。采用獨特的插入式設計,通過簡單地變換鍍膜頭就可輕松配置為濺射或蒸鍍設備。在鍍膜之前和/或之后,可選進行等離子處理。模塊化設計可輕松避免金屬和碳沉積之間的交叉污染。CCU-010標配膜厚監測裝置。專有的自動碳源卷送設計–多達數十次碳鍍膜,無需用戶干預。主動冷卻的濺射頭可確保鍍膜質量并延長連續運行時間。
    美國Tousimis_SAMDRI-PVT-3D超臨界干燥儀

    美國Tousimis_SAMDRI-PVT-3D超臨界干燥儀

    美國Tousimis超臨界干燥儀廣泛適用于生物樣品,凝膠等具有微納米3D結構的脆弱復雜樣品,以及MEMS、MOF、碳納米管、石墨烯、半導體晶圓(最大樣品尺寸8英寸,一次同時干燥5片)等材料類樣品的臨界點干燥。利用CO2臨界點狀態無液相表面張力引起樣品皺縮變形的原理獲取具有真實形貌的干燥樣品,是含水或其它液體的細胞組織等生物樣品、半導體等材料樣品干燥制樣的有效方法;具有操作簡便、控制精確、結果可重復等特點。其中,經典的電鏡制樣設備SAMDRI?-PVT-3D型臨界點干燥儀和屢獲殊榮的Autosamdri?-931高級觸摸屏全自動CPD等型號尤其令人矚目??蛻艨苫诓煌膽眠x擇不同的型號。
    美國Tousimis AUTOSAMDRI-931觸摸屏全自動臨界點干燥儀

    美國Tousimis AUTOSAMDRI-931觸摸屏全自動臨界點干燥儀

    美國Tousimis超臨界干燥儀廣泛適用于生物樣品,凝膠等具有微納米3D結構的脆弱復雜樣品,以及MEMS、MOF、碳納米管、石墨烯、半導體晶圓(最大樣品尺寸8英寸,一次同時干燥5片)等材料類樣品的臨界點干燥。利用CO2臨界點狀態無液相表面張力引起樣品皺縮變形的原理獲取具有真實形貌的干燥樣品,是含水或其它液體的細胞組織等生物樣品、半導體等材料樣品干燥制樣的有效方法;具有操作簡便、控制精確、結果可重復等特點。Autosamdri-931高級觸摸屏全自動CPD,具有獨特的攪拌方式,加快置換的同時避免樣品擾動,便于維護;采用“Stasis 軟件”,在困難樣品處理過程中可使液態 CO2完全置換乙醇,適用于凝膠和其它復雜樣品的臨界點干燥制備。
    美國Tousimis C系列觸摸屏全自動臨界點干燥儀_晶圓專用CPD

    美國Tousimis C系列觸摸屏全自動臨界點干燥儀_晶圓專用CPD

    美國Tousimis C系列觸摸屏全自動臨界點干燥儀 _晶圓專用CPD(清潔室版本)。C系列為立式(落地式)大型臨界點干燥儀,可在超凈間工作,有3個型號可選: 1)Autosamdri-934,用于不超過4"的晶圓超臨界干燥 2)Automegasamdri-936,用于不超過6"的晶圓超臨界干燥 3)Automegasamdri-938,用于不超過8"的晶圓超臨界干燥
    加拿大Dragonfly三維圖像處理和分析軟件

    加拿大Dragonfly三維圖像處理和分析軟件

    Comet Technologies Canada(原ORS)公司出品的Dragonfly軟件能夠將復雜的微結構快速轉化為全面的研究結果,是當今最具挑戰性的科學和工業2D/3D/4D成像研究的最佳定量分析平臺,廣泛應用于金屬/合金/復合材料等材料科學、細胞/動植物(比如小鼠/昆蟲/木材/根系/竹子)等生物和生命科學、石油地質等地球科學領域。
    英國Deben 2kN原位拉伸臺_SEM EBSD等應用,可選加熱

    英國Deben 2kN原位拉伸臺_SEM EBSD等應用,可選加熱

    Deben近期開發了一種新的2KN拉伸臺,可選擇加熱至600°C的加熱裝置,專門用于裝有EBSD探測器的掃描電鏡內。該臺有雙樣品夾具,允許樣品在0°和70°下觀察,并可配備溫度范圍高達600°C的可選的加熱/冷卻夾具。
    英國Deben CT5000 5KN原位拉伸臺(μXCT應用)

    英國Deben CT5000 5KN原位拉伸臺(μXCT應用)

    CT5000原位測試臺用途廣泛,適應性強,重量小于6.0kg,適用于安裝在常見的中程μXCT系統,如Nikon XTH-225、蔡司/Xradia Versa和GE?v|tome|x等
    英國Deben 半導體制冷冷臺

    英國Deben 半導體制冷冷臺

    英國Deben EBIC掃描電鏡電子束感生電流放大器及成像系統

    英國Deben EBIC掃描電鏡電子束感生電流放大器及成像系統

    美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

    美國JC Nabity電子束曝光系統(NPGS納米圖形發生器)

    自上世紀八十年代成立以來,美國JC Nabity Lithography Systems公司一直致力于基于商品SEM、STEM或FIB的電子束光刻裝置的研制,其研發的納米圖形發生器系統(Nanometer Pattern Generation System納米圖形發生系統,簡稱NPGS,又稱電子束微影系統)技術在全球同類系統中屬于翹楚之作,世界各地越來越多的用戶包括大學、科研機構及政府實驗室在使用NPGS進行EBL研究工作.
    美國PIE_Tergeo等離子清潔儀

    美國PIE_Tergeo等離子清潔儀

    Tergeo系列臺式全自動等離子清潔儀具有清潔、灰化、刻蝕等功能,可用來清潔納米級樣品,去除光刻膠,清潔晶圓和集成電路鍵合焊盤,進行煤和有機物的灰化,激活聚合物、金屬和陶瓷表面官能團,獲得表面親水性,提高鍵合強度和可印刷性,促進醫療器械生物相容性??杉山胧胶瓦h程式兩種等離子源,既可清潔電鏡光闌和TEM樣品桿,也可清潔石墨烯、碳納米管、類金剛石碳和TEM載網多孔碳膜等脆弱的精細樣品。
    荷蘭ASI TPX3Cam系列納秒光子時間戳高速探測器

    荷蘭ASI TPX3Cam系列納秒光子時間戳高速探測器

    荷蘭ASI出品的TPX3Cam是一款用于光學光子時間戳的快速光學相機。它基于一種新型硅像素傳感器,并結合了Timepix3 ASIC和讀出芯片技術,適用于電子、離子或單光子等需要時間分辨成像的各種應用。TPX3Cam可以很容易地集成在桌上型研究裝置中,也可以集成在同步加速器或自由電子激光環境中。TPX3Cam的應用包括飛行時間質譜中離子的空間和速度映射成像; 離子和電子的符合成像,以及其他時間分辨類型的成像光譜。增強版TPX3Cam可以是單光子敏感的。在這種配置下,相機與現成的圖像增強器結合使用。應用包括寬視場時間相關單光子計數(TCSPC)成像,磷光壽命成像和任何需要時間分辨單光子成像的應用。
    荷蘭M2N顯微學耗材及用品(電鏡耗材)

    荷蘭M2N顯微學耗材及用品(電鏡耗材)

    M2N電子顯微鏡用品和耗材品種齊全,品質卓越,可靠實用;產品包括載網、支持膜、樣品臺、靶材、載玻片、標樣、鎢燈絲、導電膠膠帶、探針、工器具、存儲容器等等。
    日本ATTO電泳、凝膠成像等生物化學儀器

    日本ATTO電泳、凝膠成像等生物化學儀器

    日本ATTO產品線
    上一頁
    1
    2
    3
    搜索
    搜索

    南京覃思科技有限公司總部

    服務熱線:025-85432178, 025-85432278

    傳  真:025-83353938

    郵編編碼:210009

    地  址:南京市中山北路281號新城市廣場虹橋中心2-728B

    電子郵箱:sales@tansi.com.cn

    南京覃思科技有限公司北京分公司

    服務熱線:010-62908712

    傳  真:025-83353938

    郵編編碼: 100085

    地  址:北京市海淀區上地三街金融科貿大廈719

    電子郵箱:sales@tansi.com.cn

    ? 2019 南京覃思科技有限公司版權所有 蘇ICP備05020058號 

    日韩在线成年视频人网站观看_精品国产91久久久久久_欧美日韩视频一区二区_久久小说下载网